Производитель

Фотолитография

21 товаров
в каталоге
21 доступно под заказ,
доставка возможна по всей России
Вид:
Сортировать по:
M&R Nano Technology
Установка совмещения и экспонирования AG500-4N-SLC / AG500-6N-SLC
Под заказ
Цена по запросу
Sono-Tek
Система ультразвукового спрей-нанесения фоторезиста Exacta Coat
Под заказ
Цена по запросу
M&R Nano Technology
Установка совмещения и экспонирования AG500-4N-ST / AG500-6N-ST
Под заказ
Цена по запросу
SPS Europe
Центрифуги Spin 150i/200i и Polos 200 Advanced
Под заказ
Цена по запросу
Cost Effective Equipment (CEE)
Центрифуга для нанесения фоторезиста Apogee Spin Coater
Под заказ
Цена по запросу
Cost Effective Equipment (CEE)
Установка проявления фоторезиста Apogee Developer
Под заказ
Цена по запросу
Cost Effective Equipment (CEE)
Установка сушки фоторезиста Apogee Bake Plate
Под заказ
Цена по запросу
SPS Europe
Термоплита HT-150S
Под заказ
Цена по запросу
M&R Nano Technology
Автоматическая установка нанесения, проявления и сушки фоторезиста MRS-AC-ST
Под заказ
Цена по запросу
SPS Europe
Автоматическая установка Spin process station
Под заказ
Цена по запросу
SPS Europe
Система автоматической подачи рабочего вещества PTFE Dispense Vessel
Под заказ
Цена по запросу
Admatec
Системы подачи рабочего вещества
Под заказ
Цена по запросу
SPS Europe
Система прямой оптической литографии POLOS µWriter
Под заказ
Цена по запросу
SPS Europe
Системы мегазвуковой отмывки
Под заказ
Цена по запросу
SPS Europe
Термоплита HT-200S
Под заказ
Цена по запросу
4PICO
Лазерный генератор изображений 4PICO PicoMaster 200
Под заказ
Цена по запросу
4PICO
Лазерный генератор изображений 4PICO PicoMaster 150
Под заказ
Цена по запросу
4PICO
Лазерный генератор изображений 4PICO PicoMaster 100
Под заказ
Цена по запросу
MIVA Technologies
Установки прямого экспонирования MIVA Technologies
Под заказ
Цена по запросу
MIVA Technologies
Установки безмасковой литографии MIVA Technologies
Под заказ
Цена по запросу

Фотолитография — это процесс формирования рисунка в слое фоточувствительного резиста с последующим переносом рисунка на подложку. Целью данной технологической операции является формирование упорядоченных двумерных и трехмерных структур на поверхности подложки.