Описание
Лазерные генераторы изображений 4PICO представляют собой универсальные лазерные генераторы изображений с ультравысокой точностью, специально разработанные для предоставления пользователю максимальной свободы создания микроструктур в фоточувствительных слоях. Принцип растрирования генератора обеспечивает равномерное экспонирование по всей поверхности. Сканирование подложки с высокой скоростью и шаговый привод экспонирующего модуля с программной регулировкой высоты делает MicroMaster 100 идеальным фотолитографическим инструментом для исследований, разработок, а также для опытного и мелкосерийного производства.
Ключевые особенности лазерных генераторов 4PICO серии PicoMaster:
- 4 режима экспонирования - 0,3 мкм, 0,6 мкм, 0,9 мкм, 5 мкм;
- Переключение режимов экспонирования в ПО установки, без смены объективов;
- Экспонирование одной топологии разными режимами в одном рецепте для увеличения производительности;
- Уникальная запатентованная конструкция экспонирующего модуля, позволяющая автофокусу моментально отрабатывать все неровности подложки;
- Экспонирование многослойных структур с совмещением по меткам;
- Полутоновое экспонирование;
- Возможность замены экспонирующего модуля на новый путем откручивания 4 винтов, без дополнительных настроек и калибровок (минимальное время простоя);
- Понятное и функционально насыщенное ПО, позволяющее при необходимости настроить процесс на самых глубоких уровнях.
Зависимость скорости экспонирования от минимального размера пятна
| Разрешение | Скорость экспонирования при 50% наложении (normal quality) | Скорость экспонирования при 30% наложении (reduced quality) |
|---|---|---|
| 0,3 мкм | 1,4 мм2/мин | 2,1 мм2/мин |
| 0,6 мкм | 2,8 мм2/мин | 4,2 мм2/мин |
| 0,9 мкм | 4,2 мм2/мин | 6,4 мм2/мин |
| 5 мкм (опция) | 23 мм2/мин | 35 мм2/мин |
Доступные опции:
- Замена источника излучения 405нм на источник с длиной волны 375нм;
- Модуль поддержания температуры и влажности в рабочем объеме генератора;
- Запасной экспонирующий модуль (375нм или 405нм на выбор).
| Максимальный размер подложки | 125х125 мм |
|---|---|
| Область экспонирования | 110х110 мм |
| Разрешение | 0,3 мкм, 0,6 мкм, 0,9 мкм, 5 мкм (выбирается в ПО) |
| Источник излучения | Диодный УФ лазер |
| Длина волны источника излучения | 405 нм (опционально 375 нм) |
| Автофокус | Лазерный |
| Совмещение по меткам | Камера высокого разрешения |
| Защита от вибраций | Гранитное основание |
| Тип корпуса | Настольный |
| Вакуум | Внешний насос |
