Назад Назад

Лазерный генератор изображений 4PICO PicoMaster 150

Производитель:
Остаток на складе:
Под заказ
Цена:
Цена по запросу

Лазерные генераторы изображений 4PICO представляют собой универсальные лазерные генераторы изображений с ультравысокой точностью, специально разработанные для предоставления пользователю максимальной свободы создания микроструктур в фоточувствительных слоях. Принцип растрирования генератора обеспечивает равномерное экспонирование по всей поверхности. Сканирование подложки с высокой скоростью и шаговый привод экспонирующего модуля с программной регулировкой высоты делает MicroMaster 150 идеальным фотолитографическим инструментом для исследований, разработок, а также для опытного и мелкосерийного производства.

Ключевые особенности лазерных генераторов 4PICO серии PicoMaster:

  • 4 режима экспонирования - 0,3 мкм, 0,6 мкм, 0,9 мкм, 5 мкм;
  • Переключение режимов экспонирования в ПО установки, без смены объективов;
  • Экспонирование одной топологии разными режимами в одном рецепте для увеличения производительности;
  • Уникальная запатентованная конструкция экспонирующего модуля, позволяющая автофокусу моментально отрабатывать все неровности подложки;
  • Экспонирование многослойных структур с совмещением по меткам;
  • Полутоновое экспонирование;
  • Возможность замены экспонирующего модуля на новый путем откручивания 4 винтов, без дополнительных настроек и калибровок (минимальное время простоя);
  • Понятное и функционально насыщенное ПО, позволяющее при необходимости настроить процесс на самых глубоких уровнях.

Зависимость скорости экспонирования от минимального размера пятна

Разрешение Скорость экспонирования при 50% наложении (normal quality) Скорость экспонирования при 30% наложении (reduced quality)
0,3 мкм 1,4 мм2/мин 2,1 мм2/мин
0,6 мкм 2,8 мм2/мин 4,2 мм2/мин
0,9 мкм 4,2 мм2/мин 6,4 мм2/мин
5 мкм (опция) 23 мм2/мин 35 мм2/мин

Доступные опции:

  • Замена источника излучения 405нм на источник с длиной волны 375нм;
  • Модуль поддержания температуры и влажности в рабочем объеме генератора;
  • Запасной экспонирующий модуль (375нм или 405нм на выбор).
  • Максимальный размер подложки 160х160 мм
    Область экспонирования 150х150 мм
    Разрешение 0,3 мкм, 0,6 мкм, 0,9 мкм, 5 мкм (выбирается в ПО)
    Источник излучения Диодный УФ лазер
    Длина волны источника излучения 405 нм (опционально 375 нм)
    Автофокус Лазерный
    Совмещение по меткам Камера высокого разрешения
    Защита от вибраций Гранитное основание
    Тип корпуса Настольный
    Вакуум Внешний насос
    Показать еще