Новая модификация установки Apex SLR компании Advanced Vacuum для плазмохимического осаждения

Новая модификация установки Apex SLR компании Advanced Vacuum для плазмохимического осаждения

15 Июля 2014

Компания Advanced Vacuum представила новую модификацию своей установки Apex SLR. Теперь на базе платформы Apex SLR реализованы процессы плазмохимического осаждения: PECVD и HDPCVD.Низкотемпературный HDPCVD-процесс в установке Apex SLR HDPCVD позволяет осаждать материалы плазмохимическим способом при температурах менее +180 °С, вплоть до комнатной. Типичные скорости осаждения SiO2 и SiNx при температуре менее +150 °С составляют 1500 А/мин и 1000 А/мин соответственно. Однородность осажденного слоя по пластине диаметром 200 мм и однородность от одной партии пластин к другой партии составляет порядка +/-2% или лучше. Для достижения высокой плотности плазмы в установке Apex SLR HDPCVD имеется реактор с цилиндрическим ICP-электродом, который также предусмотрен в установке травления Apex SLR ICP. В конструкции реактора и электрода Apex SLR использован дизайн установок Plasma-Therm Shuttlelock, прекрасно зарекомендовавших себя по всему миру (более 300 инсталляций).

Платформа Apex — последняя разработка компании Advanced Vacuum. Первые заказчики получили установки травления Apex SLR ICP в начале 2013 года. В 2014 году начались поставки установок в версиях PECVD и HDPCVD. Apex — наиболее современная, универсальная и экономически эффективная платформа плазмохимического травления и осаждения материалов во всей линейке оборудования Advanced Vacuum и Plasma-Therm.

Архитектура платформы Apex реализует последние достижения отрасли в области автоматизации и машиностроения. Благодаря применению современных промышленных протоколов Ethernet и DeviceNet, количество проводов внутри установки значительно сократилось. Как следствие, уменьшилась себестоимость производства установки, увеличилась ее надежность. Процедура проведения пусконаладочных работ и сервисного обслуживания значительно упростилась. Применение протокола DeviceNet также позволило контролировать большее количество параметров оборудования, входящего в состав установки, — температуру внутренних компонентов насосов, состояние различных датчиков. Схема построения системы управления установкой на базе программируемого логического контроллера (ПЛК) способствовала повышение стабильности и безопасности платформы, особенно при использовании токсичных и легковоспламеняющихся газов. Набор программных и физических блокировок (интерлоков) обеспечивает безопасную работу даже при экстренных отключениях электропитания.

Платформа Apex в стандартной комплектации поставляется с загрузочным вакуумным шлюзом. Шлюз новой модификации допускает работу с пластинами до 200 мм в диаметре. Применение в конструкции шлюза роботизированной руки сократило габариты шлюза до минимальных размеров. Общие габариты установки удалось довести до значения <1 м2, что позволяет наиболее эффективно использовать место в чистом производственном помещении.

Отдельно следует отметить систему управления установкой Apex. Для удобства оператора на отдельную панель, расположенную на вакуумном шлюзе, выведены четыре кнопки управления основными функциями. В реальном производственном режиме, когда исполняемый рецепт записан в память установки, оператору больше не нужно подходить к управляющему компьютеру. Достаточно использовать четыре физических кнопки управления: напуск/откачка; загрузка/выгрузка; процесс; очистка камеры. Такое простое и изящное решение в системе управления значительно упрощает работу оператора и повышает производительность процесса.

Смотрите более подробное описание установки:
Установка низкотемпературного плазмохимического осаждения Apex SLR HDPCVD