Установки магнетронного напыления SP-203/303/503

Сравнить

Цена

по запросу
Узнать цену
  • Описание
Установки магнетронного напыления SP-203/303/503 специально разработаны для мелко- и среднесерийных производств. Установки позволяют получать тонкие пленки широкого спектра металлов, диэлектриков и других материалов. Равномерность нанесения материалов типично составляет ≤3%. В зависимости от конфигурации источников, установки серии SP могут быть оснащены вакуумными камерами различного объема. Модификации SP-203/303/503 перекрывают весь спектр возможных конфигураций внутренней оснастки для работы с пластинами 60 х 48 мм и полупроводниковыми пластинами диаметром 2” – 6”. Компактный корпус машины может быть легко размещен в условиях недостатка площадей, конструкция корпуса позволяет разместить установку через стену ЧПП.

Технические характеристики

Диаметр держателя подложек  До 350 мм, или специальный по ТЗ
Размер подложек  60 х 48 мм или 2” – 6”
Размещение магнетронов Вверх/вниз
Количество/диаметр магнетронов  1 – 5 шт. / 2” – 6”
Тип блоков питания DC или RF
Нагрев образцов  Опционально до +800 °С
Система откачки  Сухой спиральный насос + турбомолекулярный насос
Предельное давление  10-7 Торр
Типичная скорость откачки камеры  10-6 Торр за 30 мин.
Контроль давления  Автоматический
Скорость вращения подложки 5 – 30 об./мин.
Равномерность по толщине  ±3%, зависит от конфигурации
Система управления ПЛК/ПЛК+ПК
Отслеживание толщины По времени или с помощью кварцевого толщиномера
Смотровое окно  Есть
Сменные экраны для вакуумной камеры  Есть
Опции Система нагрева
Система охлаждения
Ионный источник для очистки или ассистирования
Вакуумный шлюз
Другие опции под заказ

Цена на сайте не является публичной офертой. Описание оборудования носит информационный характер и может отличаться от описания, представленного в технической документации производителя. Конечную стоимость и технические характеристики оборудования уточняйте у наших менеджеров.
Товаров в сравнении: 0