Установки магнетронного напыления SP-203/303/503

Добавить к сравнению

Склад: сроки поставки по запросу

Цена

по запросу
Узнать цену
Оцените качество обслуживания, помогите нам стать лучше!
  • Описание
Установки магнетронного напыления SP-203/303/503 специально разработаны для мелко- и среднесерийных производств. Установки позволяют получать тонкие пленки широкого спектра металлов, диэлектриков и других материалов. Равномерность нанесения материалов типично составляет ≤3%. В зависимости от конфигурации источников, установки серии SP могут быть оснащены вакуумными камерами различного объема. Модификации SP-203/303/503 перекрывают весь спектр возможных конфигураций внутренней оснастки для работы с пластинами 60 х 48 мм и полупроводниковыми пластинами диаметром 2” – 6”. Компактный корпус машины может быть легко размещен в условиях недостатка площадей, конструкция корпуса позволяет разместить установку через стену ЧПП.

Технические характеристики

Диаметр держателя подложек  До 350 мм, или специальный по ТЗ
Размер подложек  60 х 48 мм или 2” – 6”
Размещение магнетронов Вверх/вниз
Количество/диаметр магнетронов  1 – 5 шт. / 2” – 6”
Тип блоков питания DC или RF
Нагрев образцов  Опционально до +800 °С
Система откачки  Сухой спиральный насос + турбомолекулярный насос
Предельное давление  10-7 Торр
Типичная скорость откачки камеры  10-6 Торр за 30 мин.
Контроль давления  Автоматический
Скорость вращения подложки 5 – 30 об./мин.
Равномерность по толщине  ±3%, зависит от конфигурации
Система управления ПЛК/ПЛК+ПК
Отслеживание толщины По времени или с помощью кварцевого толщиномера
Смотровое окно  Есть
Сменные экраны для вакуумной камеры  Есть
Опции Система нагрева
Система охлаждения
Ионный источник для очистки или ассистирования
Вакуумный шлюз
Другие опции под заказ