Установки электронно-лучевого напыления EB-450 и E-400L

Сравнить

Цена

по запросу
Узнать цену
  • Описание
Установка электронно-лучевого напыления EB-450 специально разработана для мелко- и среднесерийных производств. Установка позволяет получать тонкие пленки широкого спектра металлов (Al, Au, Cr, Cu, Vn, Ni, Ti и др.), диэлектриков и полупроводниковых материалов. Установка может быть легко сконфигурирована под требуемые задачи при работе с пластинами 60 х 48 мм или 2” – 8”, обеспечивает хорошую повторяемость результатов при осаждении одно- и многослойных пленок. Равномерность нанесения материалов типично составляет ≤3%. Компактный корпус машины может быть легко размещен в условиях недостатка площадей, конструкция корпуса позволяет разместить установку через стену ЧПП.

В отличие от однокамерной конфигурации в установке EB-450, установка E-400-L выполняется в двухкамерной конфигурации. Нижняя камера выполняет функцию изоляции электронно-лучевого испарителя, а верхняя камера используется для загрузки образцов. Таким образом, материал для испарения всегда остается в вакуумной камере даже в процессе загрузки образцов. Размер верхней камеры может изменяться в зависимости от размера и количества подложек. Верхняя и нижняя камеры разделены высоковакуумным шибером.

Обе установки опционально оснащаются различными типами насосов, ИК-нагревателями, ионным источником для очистки или ассистирования. Возможно исполнение установок с вакуумным шлюзом.

Технические характеристики

Диаметр держателя подложек  До 350 мм, или специальный по ТЗ
Размер подложек  60 х 48 мм или 2” – 8”
Система откачки  Сухой спиральный насос + турбомолекулярный насос или крионасос
Предельное давление  10-7 Торр
Типичная скорость откачки камеры  10-6 Торр за 30 мин.
Скорость вращения подложки  5 – 30 об./мин.
Равномерность по толщине  ±3%, зависит от конфигурации
Мощность электронного луча 6 кВт
Число и размер тиглей 1 – 6 шт. / 7 – 25 см3
Система управления ПЛК/ПЛК+ПК
Отслеживание толщины  Кварцевый толщиномер
Смотровое окно  Есть
Сменные экраны для вакуумной камеры Есть
Опции Система нагрева
Система охлаждения
Ионный источник для очистки или ассистирования
Вакуумный шлюз
Другие опции под заказ

Цена на сайте не является публичной офертой. Описание оборудования носит информационный характер и может отличаться от описания, представленного в технической документации производителя. Конечную стоимость и технические характеристики оборудования уточняйте у наших менеджеров.
Товаров в сравнении: 0