Установка плазмохимического травления Apex SLR ICP

Добавить к сравнению

Склад: сроки поставки по запросу

Цена

по запросу
Узнать цену
  • Описание
  • Видео
Apex SLR ICP компании Advanced Vacuum — это современная, универсальная, надежная система плазмохимического травления в индуктивно-связанной плазме, которая идеально подходит для решения широкого спектра технологических задач в области микроэлектроники. Apex SLR — последняя разработка компании Advanced Vacuum, в которой применены промышленные технологии оборудования компании Plasma-Therm. Высокая производительность и низкая стоимость обслуживания установки Apex SLR позволяют использовать ее как для R&D-лабораторий, так и для пилотного производства.

Установка Apex SLR в базовой комплектации оснащена автоматическим вакуумным шлюзом, что позволяет эффективно проводить процесс травления практически всех типов материалов, которые используются на микроэлектронных производствах:
  • GaN, GaAs, AlGaP, InP, InGaAs, HgCdTe.
  • SiC, Al2O3, DLC.
  • Si, SiO2, SiNx.
  • Cr, Ti, Al, TiN, TiW, Mo.
  • Резисты, полиимиды.

Ключевые преимущества установки Apex SLR ICP:

  • Максимальный размер обрабатываемой подложки 200 мм (поштучная обработка, наличие вакуумного шлюза в базовой комплектации).
  • Равномерность травления по толщине и воспроизводимость результатов от пластины к пластине — лучше ±3%.
  • Повышенная безопасность и чистота процесса за счет шлюзовой загрузки.
  • В комплекте с установкой поставляется библиотека стандартных технологических процессов, которые гарантируются производителем.
  • Простой, интуитивно понятный интерфейс.
  • История аварийный сообщений, контроль рецептов в процессе работы — вывод данных о процессе на дисплей в режиме реального времени.
  • Программное обеспечение позволяет записывать параметры процессов для дальнейшего анализа.
  • Многоуровневый доступ пользователей.
  • Возможность удаленного управления и контроля состояния системы.
  • Наличие различных вариантов системы отслеживания окончания процесса (OES, OEI, LEPD).
  • Современная архитектура на основе ПЛК и DeviceNet: безопасная работа, легкая диагностика и минимальное количество проводов.
  • Простота использования и обслуживания.
  • Малая занимаемая площадь <1 м2.
  • Возможность установки через стену чистого производственного помещения.
  • Возможность изготовления опций и оснастки «под заказ».

Основные технические характеристики установки Apex SLR ICP

Размер электрода Для пластин до 200 мм в диаметре
Загрузка Поштучная шлюзовая загрузка, автоматический шлюз. Возможна групповая обработка на специальном носителе.
Температура электрода Определяется типом процесса. Используется чиллер. Стандартно +5...40 °С, доступны другие варианты
Материал электрода Алюминий/керамика. Опционально доступны другие материалы
Тип прижима Мягкий механический, охлаждение гелием. Опционально электростатический
Тип плазмы Индуктивно-связанная
ВЧ-генератор RIE: 600 Вт, 13,56 МГц
ICP: 1200 Вт, 2 МГц
Опционально 2000 Вт, 2 МГц
Вакуумная камера Изготовлена из цельного блока алюминия. Опциональная внешняя система прогрева
Откачная система Форвакуумный насос 100 м3/ч, безмасляный
Турбомолекулярный насос 450 л/с
Возможна установка других насосов по ТЗ заказчика
Уровень вакуума <10-6 торр
Контроль давления процесса Автоматический
Газовые линии с цифровыми РРГ 4 линии (стандартно). Опционально до 20 линий.
Система контроля, ПО ПЛК (XP/Windows 7), DeviceNet
Электропитание 380 В, 50 Гц, 3 фазы
Габариты установки (Ш×Г×В) 685×1388×2063 мм с газовым шкафом на каркасе
685×1388×1250 мм без газового шкафа на каркасе
Возможно размещение газового шкафа отдельно от каркаса установки
Сертификация CE, SEMI-2, S8

Основные опции

  • Система отслеживания окончания процесса:
    • Оптическая эмиссионная спектроскопия (OES)
    • Оптическая эмиссионная интерферометрия (OEI)
    • Лазерная интерферометрия (LEPD)
  • Дополнительные газовые линии (до 20 в сумме),
  • Расширение температурного интервала электрода (например, –25...+60 С, либо диапазон на заказ),
  • Специальные держатели образцов,
  • Нагреватели вакуумной камеры и вакуумного тракта,
  • Удаленный мониторинг состояния системы SECS/GEM,
  • Пакет для установки через стенку ЧПП,
  • Размещение газового шкафа отдельно от каркаса установки,
  • Расширенная гарантия производителя,
  • Специальные опции под заказ

Сравнительная таблица основных характеристик установок плазмохимического травления