Установка плазмохимического осаждения Vision 410 PECVD

Сравнить

Цена

по запросу
Узнать цену
  • Описание
Установка плазмохимического осаждения Advanced Vacuum Vision 410 PECVD компании Advanced Vacuum— это компактная, надежная, экономически эффективная и простая в эксплуатации и обслуживании установка плазмостимулированного осаждения из газовой фазы для R&D-лабораторий, мелкосерийных, пилотных и серийных производств.

Установка Vision 410 PECVD позволяет осаждать следующие материалы:

  • Диэлектрики: SiO2, SiNx, SiOxNy;
  • Полупроводниковые материалы: SiC, a-Si.

Ключевые преимущества установки Vision 410 PECVD:

  • Большая область загрузки — круглый стол диаметром 406 мм, который позволяет обрабатывать подложки разных форм и размеров.
  • Равномерность осаждаемого покрытия по толщине и воспроизводимость результатов от пластины к пластине — лучше ±2%.
  • В комплекте с установкой поставляется библиотека стандартных технологических процессов, которые гарантируются производителем.
  • Программное обеспечение позволяет записывать параметры процессов для дальнейшего анализа.
  • История аварийный сообщений, контроль рецептов в процессе работы — вывод данных о процессе на дисплей в режиме реального времени.
  • Многоуровневый доступ пользователей.
  • Возможность удаленного управления и контроля состояния системы.
  • Наличие различных вариантов системы отслеживания окончания процесса (OES, OEI).
  • Простой, интуитивно понятный интерфейс.
  • Простота использования и обслуживания.
  • Малая занимаемая площадь <1 м2.
  • Возможность установки через стену чистого производственного помещения.

Основные технические характеристики установки Vision 410 PECVD

Размер электрода 16″ (406 мм) в диаметре
Температура электрода +80...350 °С
Материал электрода Алюминий
Тип плазмы Емкостная
ВЧ-генератор 600 Вт, 13,56 МГц. Опционально 1200 Вт, 13,56 МГц
Вакуумная камера Изготовлена из цельного блока алюминия
Откачная система Форвакуумный насос 600 м3/ч, безмасляный
Уровень вакуума <10-6 торр
Контроль давления процесса Автоматический
Газовые линии с цифровыми РРГ 5 линий (стандартно). Опционально до 8 линий
Система контроля, ПО Cortex на базе Windows 7
Электропитание 380 В, 50 Гц, 3 фазы
Габариты установки (Ш×Г×В) 667×1146×1880 мм
Сертификация CE, SEMI-2, S8
Удаленный мониторинг состояния системы SECS/GEM

Основные опции

  • Система отслеживания окончания процесса:
    • Оптическая эмиссионная спектроскопия (OES)
    • Оптическая эмиссионная интерферометрия (OEI)
  • Дополнительные газовые линии (до 8 в сумме),
  • Специальные держатели образцов,
  • Пакет для установки через стенку ЧПП,
  • Расширенная гарантия производителя

Различные варианты размещения подложек для установки Vision 410 PECVD


Сравнительная таблица основных характеристик установок плазмохимического осаждения


Цена на сайте не является публичной офертой. Описание оборудования носит информационный характер и может отличаться от описания, представленного в технической документации производителя. Конечную стоимость и технические характеристики оборудования уточняйте у наших менеджеров.
Товаров в сравнении: 0