Установка плазмохимического осаждения Vision 410 PECVD

Добавить к сравнению

Склад: сроки поставки по запросу

Цена

по запросу
Узнать цену
  • Описание
Установка плазмохимического осаждения Advanced Vacuum Vision 410 PECVD компании Advanced Vacuum— это компактная, надежная, экономически эффективная и простая в эксплуатации и обслуживании установка плазмостимулированного осаждения из газовой фазы для R&D-лабораторий, мелкосерийных, пилотных и серийных производств.

Установка Vision 410 PECVD позволяет осаждать следующие материалы:

  • Диэлектрики: SiO2, SiNx, SiOxNy;
  • Полупроводниковые материалы: SiC, a-Si.

Ключевые преимущества установки Vision 410 PECVD:

  • Большая область загрузки — круглый стол диаметром 406 мм, который позволяет обрабатывать подложки разных форм и размеров.
  • Равномерность осаждаемого покрытия по толщине и воспроизводимость результатов от пластины к пластине — лучше ±2%.
  • В комплекте с установкой поставляется библиотека стандартных технологических процессов, которые гарантируются производителем.
  • Программное обеспечение позволяет записывать параметры процессов для дальнейшего анализа.
  • История аварийный сообщений, контроль рецептов в процессе работы — вывод данных о процессе на дисплей в режиме реального времени.
  • Многоуровневый доступ пользователей.
  • Возможность удаленного управления и контроля состояния системы.
  • Наличие различных вариантов системы отслеживания окончания процесса (OES, OEI).
  • Простой, интуитивно понятный интерфейс.
  • Простота использования и обслуживания.
  • Малая занимаемая площадь <1 м2.
  • Возможность установки через стену чистого производственного помещения.

Основные технические характеристики установки Vision 410 PECVD

Размер электрода 16″ (406 мм) в диаметре
Температура электрода +80...350 °С
Материал электрода Алюминий
Тип плазмы Емкостная
ВЧ-генератор 600 Вт, 13,56 МГц. Опционально 1200 Вт, 13,56 МГц
Вакуумная камера Изготовлена из цельного блока алюминия
Откачная система Форвакуумный насос 600 м3/ч, безмасляный
Уровень вакуума <10-6 торр
Контроль давления процесса Автоматический
Газовые линии с цифровыми РРГ 5 линий (стандартно). Опционально до 8 линий
Система контроля, ПО Cortex на базе Windows 7
Электропитание 380 В, 50 Гц, 3 фазы
Габариты установки (Ш×Г×В) 667×1146×1880 мм
Сертификация CE, SEMI-2, S8
Удаленный мониторинг состояния системы SECS/GEM

Основные опции

  • Система отслеживания окончания процесса:
    • Оптическая эмиссионная спектроскопия (OES)
    • Оптическая эмиссионная интерферометрия (OEI)
  • Дополнительные газовые линии (до 8 в сумме),
  • Специальные держатели образцов,
  • Пакет для установки через стенку ЧПП,
  • Расширенная гарантия производителя

Различные варианты размещения подложек для установки Vision 410 PECVD


Сравнительная таблица основных характеристик установок плазмохимического осаждения