Установка плазмохимического осаждения Vision 310 PECVD

Добавить к сравнению

Цена

по запросу
Узнать цену
  • Описание
Установка плазмохимического осаждения Vision 310 PECVD компании Advanced Vacuum— это компактная, надежная, технологически гибкая и простая в эксплуатации и обслуживании установка плазмостимулированного осаждения из газовой фазы для R&D-лабораторий и мелкосерийных производств.

Установка Vision 310 PECVD позволяет осаждать следующие материалы:
  • Диэлектрики: SiO2, SiNx, SiOxNy.
  • Полупроводниковые материалы: SiC, a-Si.

Ключевые преимущества установки Vision 310 PECVD:

  • Большая область загрузки — круглый стол диаметром 305 мм, который позволяет обрабатывать подложки разных форм и размеров.
  • Изменяемое расстояние между газовым душем и электродом.
  • Равномерность осаждения по толщине и воспроизводимость результатов от пластины к пластине — лучше ±2%.
  • В комплекте с установкой поставляется библиотека стандартных технологических процессов, которые гарантируются производителем.
  • Простой, интуитивно понятный интерфейс.
  • История аварийный сообщений, контроль рецептов в процессе работы — вывод данных о процессе на дисплей в режиме реального времени.
  • Программное обеспечение позволяет записывать параметры процессов для дальнейшего анализа.
  • Возможность удаленного управления и контроля состояния системы.
  • Многоуровневый доступ пользователей.
  • Наличие различных вариантов системы отслеживания окончания процесса (OES, OEI, LEPD).
  • Современная архитектура на основе ПЛК и DeviceNet: безопасная работа, легкая диагностика и минимальное количество проводов.
  • Простота использования и обслуживания.
  • Малая занимаемая площадь <0,7 м2.
  • Возможность установки через стену чистого производственного помещения.
  • Опциональное оснащение боксом для работы с токсичными и коррозионными газами.
  • Возможность изготовления опций и оснастки «под заказ».

Основные технические характеристики установки Vision 310 PECVD

Размер электрода 12″ (305 мм) в диаметре
Температура электрода +40...380 °С
Материал электрода Алюминий. Опционально доступны другие материалы
Тип плазмы Емкостная
ВЧ-генератор 300 Вт, 13,56 МГц. Опционально генератор LF
Вакуумная камера Изготовлена из цельного блока алюминия. Опциональная внешняя система прогрева
Откачная система Форвакуумный насос 250 м3/ч, масляный или безмасляный
Возможна установка других насосов по ТЗ заказчика
Уровень вакуума <10-6 торр
Контроль давления процесса Автоматический
Газовые линии с цифровыми РРГ 5 линий (стандартно). Опционально до 10 линий
Система контроля, ПО ПЛК (XP/Windows 7), DeviceNet
Электропитание 380 В, 50 Гц, 3 фазы
Габариты установки (Ш×Г×В) 730×934×2147 мм с газовым шкафом на каркасе
730×934×1172 мм без газового шкафа на каркасе
Возможно размещение газового шкафа отдельно от каркаса установки
Сертификация CE, SEMI-2, S8

Основные опции

  • Система отслеживания окончания процесса:
    • Оптическая эмиссионная спектроскопия (OES)
    • Оптическая эмиссионная интерферометрия (OEI)
    • Лазерная интерферометрия (LEPD)
  • Сухой форвакуумный насос
  • Дополнительные газовые линии (до 10 в сумме)
  • Расширение температурного интервала электрода (например, –25...+60 С, либо диапазон на заказ)
  • Перчаточный бокс
  • Специальные держатели образцов
  • Нагреватели вакуумной камеры и вакуумного тракта
  • Удаленный мониторинг состояния системы SECS/GEM
  • Пакет для установки через стенку ЧПП
  • Размещение газового шкафа отдельно от каркаса установки
  • Расширенная гарантия производителя
  • Специальные опции под заказ

Различные варианты размещения подложек для установки Vision 310 PECVD


Сравнительная таблица основных характеристик установок плазмохимического осаждения