Установка плазмохимического осаждения Versaline PECVD

Добавить к сравнению

Склад: сроки поставки по запросу

Цена

по запросу
Узнать цену
  • Описание
Plasma-Therm Versaline — это современная, надежная, высокопроизводительная платформа, на базе которой реализованы процессные модули всех ключевых типов плазменных процессов травления и осаждения материалов: RIE, RIE-ICP, PECVD, HDPCVD, DSE. Все процессные модули на платформе Versaline имеют стандартный механический интерфейс MESC и могут быть оснащены различными загрузчиками подложек, в зависимости от масштаба производства:
  • автоматический шлюз — для R&D-лабораторий и мелкосерийных производств;
  • автоматический кассетный загрузчик — для пилотных и серийных производств;
  • роботизированный загрузчик, объединяющий модули в кластер, — для крупносерийных производств.
Установка Plasma-Therm Versaline PECVD в исполнении с автоматическим шлюзом предназначена для плазмостимулированного осаждения из газовой фазы. Установка идеально подходит для решения стандартных задач осаждения SiO2 и Si3N4 в том случае, когда необходима высокая производительность, низкая стоимость процесса и технического обслуживания системы.
Установка Plasma-Therm Versaline PECVD позволяет осаждать следующие виды материалов:
  • Диэлектрики: SiO2, SiNx, SiOxNy;
  • Полупроводниковые материалы: SiC, a-Si.

Ключевые преимущества установки Versaline PECVD:

  • Максимальный размер обрабатываемой подложки 200 мм, поштучная обработка.
  • Равномерность осаждаемого покрытия по толщине и воспроизводимость результатов от пластины к пластине: типично лучше ±2%.
  • Наличие вакуумного шлюза в базовой комплектации.
  • Повышенная безопасность и чистота процесса за счет шлюзовой загрузки.
  • В комплекте с установкой поставляется библиотека стандартных технологических процессов, которые гарантируются производителем.
  • Простой, интуитивно понятный интерфейс.
  • Программное обеспечение позволяет записывать параметры процессов для дальнейшего анализа.
  • История аварийный сообщений, контроль рецептов в процессе работы — вывод данных о процессе на дисплей в режиме реального времени.
  • Многоуровневый доступ пользователей.
  • Возможность удаленного управления и контроля состояния системы.
  • Наличие различных вариантов системы отслеживания окончания процесса (OES, OEI, LEPD).
  • Простота использования и обслуживания.
  • Малая занимаемая площадь.
  • Возможность установки через стену чистого производственного помещения.
  • Возможность замены шлюза автоматическим кассетным загрузчиком или роботом.

Основные технические характеристики установки Versaline PECVD

Размер электрода Для пластин до 200 мм в диаметре
Загрузка Поштучная шлюзовая загрузка, автоматический шлюз. Опционально автоматическая кассетная загрузка или робот
Температура электрода +80...350 °С
Материал электрода Алюминий
Тип прижима Мягкий механический
Тип плазмы Емкостная
ВЧ-генератор 600 Вт, 13,56 МГц
Вакуумная камера Изготовлена из цельного блока алюминия. Опциональная внешняя система прогрева
Откачная система Форвакуумный насос 600 м3/ч, безмасляный
Уровень вакуума <10-6 торр
Контроль давления процесса Автоматический
Газовые линии с цифровыми РРГ 4 линии (стандартно). Опционально до 8 линий
Система контроля На базе ControlWorks
Электропитание 380 В, 50 Гц, 3 фазы
Габариты установки (Ш×Г×В) 640×1887×2078мм для конфигурации с автоматическим шлюзом
Сертификация CE, SEMI-2, S8
Удаленный мониторинг состояния системы SECS/GEM

Основные опции

  • Система отслеживания окончания процесса:
    • Оптическая эмиссионная спектроскопия (OES)
    • Оптическая эмиссионная интерферометрия (OEI)
    • Лазерная интерферометрия (LEPD)
  • Дополнительные газовые линии (до 8 в сумме),
  • Специальные держатели образцов,
  • Нагреватели вакуумной камеры и вакуумного тракта,
  • Пакет для установки через стенку ЧПП: два варианта,
  • Расширенная гарантия производителя

Сравнительная таблица основных характеристик установок плазмохимического осаждения