Установка плазменной обработки Nano

Добавить к сравнению

Склад: сроки поставки по запросу

Цена

по запросу
Узнать цену
  • Описание
  • Видео
Установки серии Nano предназначены для плазмохимической обработки образцов средних размеров и групповой обработки изделий в R&D лабораториях, на опытных и мелкосерийных производствах. В бюджетных малогабаритных установках можно проводить все основные виды плазменной обработки при минимальных затратах. Различные варианты материалов камеры и типов генераторов позволяют получить конфигурацию идеально подходящую под конкретное применение.

Установки серии Nano представляют собой модификацию серии Pico с камерой увеличенного объема до 36 л, более высокой мощностью генератора и возможностью использования лодочек для групповой обработки полупроводниковых пластин диаметром до 200 мм. Установки серии Nano могут быть изготовлены в напольном варианте корпуса с возможностью установки через стену чистого производственного помещения. Основными преимуществами установок серии Nano являются большое количество вариантов конфигурации, возможность групповой обработки полупроводниковых пластин большого диаметра, наличие корпуса для размещения установки через стену ЧПП высокого класса чистоты.

Типичные применения:

  • Керамика 60×48 мм (групповая обработка): очистка перед напылением, микросваркой; удаление остатков ФР.
  • Полупроводниковые пластины до 8″ (групповая обработка): очистка перед напылением, микросваркой; удаление остатков ФР.
  • Печатные платы малого размера: очистка отверстий и поверхности перед монтажом.
  • Обработка объемных образцов: электроника, приборостроение, медицина и др.
  • R&D и исследования.

Технические характеристики установок серии Nano

Камера
  • Круглая камера из нержавеющей стали с крышкой Ø267 мм, глубина 420 или 600 мм
  • Прямоугольная камера из нержавеющей стали с дверцей 240×240(В)×420 мм
  • Круглая камера из алюминия с крышкой или дверцей Ø240 мм, глубина 400 или 600 мм
  • Круглая кварцевая камера с крышкой или дверцей Ø240 мм, глубина 400 или 600 мм
  • Круглая камера из боросиликатного стекла с крышкой или дверцей Ø240 мм, глубина 400 или 600 мм
Объем камеры 18–36л
Газовая система Игольчатые клапаны с ротаметрами или цифровые РРГ
Генератор плазмы
  • 40/80/100 кГц: 100, 200, 500 и 1000 Вт
  • 13,56 МГц: 50, 100 и 300 Вт
  • 2,45 ГГц: 100, 300 и 600 Вт
Электрод
  • Одно- или многоуровневый электрод
  • РИТ-электрод
Управление
  • Ручное
  • Автоматическое (сенсорный дисплей)
  • Автоматическое (ПК)
Датчик давления
  • Пирани
  • Баратрон (для работы с коррозионными газами и РИТ-травления)
Загрузка образцов
  • Поддон из алюминия
  • Поддон из нержавеющей стали
  • Поддон из боросиликатного стекла
  • Поддон из кварца
  • Водоохлаждаемый поддон
  • Лодочка из кварца для групповой обработки пластин
  • Барабан для порошков
  • Барабан для объемных образцов
Вакуумный насос Различные варианты под требования заказчика
Габариты (Ш×В×Г) 580×650×600 мм
Доступны различные варианты корпусов

Сравнительная таблица основных характеристик установок плазменной обработки Diener Electronic