Печь быстрого термического отжига RTP 150-HV / RTP 150-HV -EP

Добавить к сравнению

Склад: сроки поставки по запросу

Цена

по запросу
Узнать цену
  • Описание
Установки UniTemp серии RTP предназначены для быстрой высокотемпературной обработки полупроводниковых пластин и плоских подложек. Настольные компактные установки RTP прекрасно подходят как для R&D-применений, так и для пилотного и мелкосерийного производства.

Установки RTP 150-HV / RTP 150-HV -EP представляют собой модификацию печей RTP 150 с возможностью работы в высоком вакууме до 10-6 мбар. Печь позволяет работать с образцами до 150 мм в диаметре. Рабочая нагреваемая область: 156×156 мм. Загрузка подложек в рабочую камеру производится вручную. Максимальная температура процесса — до +1000 °С (до +1200 °С в версии RTP 150-HV-EP). Максимальная скорость нагрева — до 75 К/с (до 150 К/с в версии RTP 150-HV-EP). Возможно проведение процессов в вакууме и газовой среде. Управление осуществляется при помощи встроенного микроконтроллера с сенсорным экраном.

Технические характеристики установки

Максимальный размер подложки Диаметр 150 мм (6″) , рабочая область 156×156 мм
Материал камеры Кварцевое стекло (водоохлаждаемая камера)
Высота камеры 40 мм
Система загрузки подложек
  • Поддон из кварцевого стекла;
  • Опциональный держатель из пирографита или графита, покрытого SiC
Уровень вакуума До 10-6 мбар (турбомолекулярный насос)
Максимальная температура процесса До +1000 °С / До + 1200 °С в версии RTP 150-HV-EP
Тип нагревателя ИК-лампы (общая мощность 21 кВт/ 42 кВт в версии RTP 150-HV-EP)
Зоны нагрева Верхняя и нижняя (программируемые)
Скорость нагрева До 75 K/с / До 150 К/с в версии RTP 150-HV-EP
Скорость охлаждения
  • От +1000 до +400 °С: 200 К/мин
  • От +400 до +100 °С: 30 К/мин
  • подложка охлаждается азотом
Температурный контроллер Встроенный
Используемые газы
  • Азот, кислород, форминг-газ
  • В базовой комплектации один РРГ 5 slm
Электропитание 3×32 А, 380 В, 3 фазы
Размер установки (Ш×Д×В) 505×504×580 мм (настольное размещение)
Вес печи 80 кг

Опции

  • Дополнительные газовые линии с РРГ (всего до 4 шт.)
  • Держатели подложек из кварца, пирографита, графита, покрытого SiC
  • Дополнительная термопара
  • Различные вакуумные насосы
  • Чиллер
  • Дополнительная рабочая камера

Сравнительная таблица основных характеристик установок быстрого термического отжига UniTemp серии RTP и VPO