Установка атомно-слоевого осаждения Shell для обработки порошковых материалов

Добавить к сравнению

Склад: сроки поставки по запросу

Цена

по запросу
Узнать цену
Оцените качество обслуживания, помогите нам стать лучше!
  • Описание
  • Характеристики

Установка Shell предназначена для процессов атомно-слоевого осаждения тонких пленок на порошковые или гранулированные материалы. Загрузка порошка в рабочую камеру осуществляется вручную. Имеется встроенная система подачи прекурсоров, а также привод вращения рабочей камеры для равномерного осаждения пленки. Установка Shell подходит для создания и исследования новых нанопорошков.

Область применения

  • Нанотехнологии и наноматериалы.
  • Нанокатализаторы и функциональные материалы.
  • Нанопорошки.
  • Обработка порошковых материалов.

Особенности

  • Специальная конструкция рабочей камеры обеспечивает равномерное осаждение тонких пленок на порошковые материалы.
  • Регулируемая температура камеры 25 – 300°C.
  • До 4 линий подачи прекурсоров.
  • Простое сервисное обслуживание благодаря модульной конструкции установки.
  • Совместимость с условиями чистых помещений.
Параметр Значение
Загрузка Ручная (open load)
Объем рабочей камеры 100 – 500 см3 (в зависимости от применения)
Температура нагрева камеры 25 - 300°С
Линии подачи прекурсоров 4 линии:
3 подогреваемые до 150˚С
1 без подогрева
Рабочие газы Встроенный газовый шкаф с цифровыми РРГ
Вакуумная система
Предельное давление
Контроль давления
Сухая откачная система с подогревом
< 20 мТорр
Автоматический
Система управления ПЛК и сенсорный дисплей с GUI-интерфейсом