Установка атомно-слоевого осаждения Premium

Добавить к сравнению

Склад: сроки поставки по запросу

Цена

по запросу
Узнать цену
Оцените качество обслуживания, помогите нам стать лучше!
  • Описание
  • Характеристики

Установка Premium позволяет совмещать процессы термического (TALD - Thermal Atomic Layer Deposition) и плазмостимулированного (PEALD - Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition) атомно-слоевого осаждения тонких пленок в одной рабочей камере. Конфигурация установки позволяет работать с подложками диаметром до 300 мм. Загрузка образцов в камеру осуществляется через шлюз в ручном режиме. Имеется встроенная система подачи прекурсоров и рабочих газов. Управление системой осуществляется при помощи цветного сенсорного дисплея. Опционально доступна автоматическая загрузка пластин из кассеты или кластерная конструкция с несколькими модулями. Благодаря своей универсальности и функциональности, установка атомно-слоевого осаждения Premium подходит для научно-исследовательских центров и мелкосерийного производства.

Область применения

  • Наноэлектроника: осаждение оксидов, нитридов, металлов, барьерных и seed слоев.
  • Новые разработки в области сенсоров, НЭМС, МЭМС, графеновых транзисторов, OLED.
  • Оптические покрытия для фильтров УФ - ИК диапазона.
  • Осаждение защитных и коррозионностойких покрытий.

Особенности

  • Возможность совмещать в одной установке процессы TALD и PEALD благодаря наличию ВЧ-генератора плазмы (13,56 МГц / 600 Вт).
  • Запатентованная конструкция рабочей камеры с газовым душем обеспечивает высокую равномерность по толщине пленки и исключает предварительное смешивание прекурсора и рабочего газа.
  • Рабочая камера из алюминия для одиночной обработки пластин размером до 300 мм.
  • Регулируемая температура подложки 25 – 500°C.
  • До 4 линий подачи прекурсоров и рабочего газа.
  • Простой и понятный графический интерфейс пользователя на базе PLC и сенсорного дисплея для задания параметров технологического процесса (рецептов).
  • Простое сервисное обслуживание благодаря модульной конструкции установки.
  • Опционально доступен встроенный генератор озона (O3).
  • Совместимость с условиями чистых помещений.

Технические характеристики

Параметр Значение
Размер пластин 50 – 300 мм
*Другие размеры по запросу
Загрузка пластин Ручная через шлюз
Тип реактора Рабочая камера с газовым душем
Температура нагрева подложки
Температура нагрева стенок камеры
25 - 500°С
макс. 150°С
ВЧ-генератор плазмы 13,56 МГц / 600 Вт
Линии подачи прекурсоров 4 линии:
3 подогреваемые до 150˚С (опция до 250˚С)
1 без подогрева
Рабочие газы Встроенный газовый шкаф на 4 линии с цифровыми РРГ
Вакуумная система
Предельное давление
Контроль давления
Сухая откачная система с подогревом
< 1х10-3 Торр
Автоматический
Система управления ПЛК и сенсорный дисплей с GUI-интерфейсом
Равномерность осаждения пленки Al2O3 < 1%
Дополнительные опции Автоматический шлюз загрузки пластин
Кассетная загрузка пластин
Дополнительные линии прекурсоров и рабочего газа
Источник прекурсоров (барботер, испаритель, LDS)