Установка бесконтактного измерения удельного сопротивления EC-80

Добавить к сравнению

Цена

по запросу
Узнать цену
  • Описание
Измерения в данной установке реализованы на основе вихревых токов, возникающих в образце при помещении его в переменное магнитное поле. Установка позволяет работать с круглыми подложками диаметром от 20 до 200 мм, а также с квадратными подложками размером до 156х156 мм. Широкий спектр рабочих материалов, точность измерений в соответствии со стандартами ASTM, компактный дизайн и простота использования позволяют использовать установку как в научно-исследовательских целях, так и на мелкосерийном производстве.

 Измеряемые материалы:
  • Полупроводниковые материалы, материалы солнечных элементов (Si, poly-Si, SiC и т.д.)
  • Наноматериалы (углеродные нанотрубки, DLC, графен, серебряные нанопроволоки и т.д.)
  • Тонкие проводящие пленки (металл, ITO, IZO т.д.)
  • Эпитаксиальные слои, легированные образцы
  • Сложные полупроводниковые материалы (GaAs, GaN, InP, GaSb, и т.д.)

Особенности:
  • Простота использования и компактный дизайн
  • Возможность работы с пластинами диаметром до 200 мм
  • Возможность работы с квадратными подложками размером до 156х156 мм
  • Запуск автоматического измерения, после установки образца под зондом
  • Легкость настройки измерений с помощью поворотного переключателя 
  • 4 конфигурации установки в зависимости от диапазона измерений (0,01~0,5 Ом/□, 0,5~ 10 Ом/□, 10~1000 Ом/□, 1000~3000 Ом/□)

Технические характеристики:

Размер образца макс. Ø200
макс. 156х156 мм
Диапазон измерения поверхностного сопротивления [Rs], в зависимости от измерительной головки 0,01 – 0,5 Ом/□
0,5 – 10 Ом/□
10 – 1000 Ом/□
1000 – 3000 Ом/□
5 – 500 Ом/□
Диапазон измерения удельного сопротивления [R], в зависимости от измерительной головки 0,001 – 0,05 Ом∙см
0,05 – 0,5 Ом∙см
0,5 – 60 Ом∙см
60 – 200 Ом∙см
0,2 – 15 Ом∙см
Управление Ручное
Габаритные размеры (ШхГхВ) 255х275х95 мм